成都真空設(shè)備廠家 research熱蒸發(fā)/磁控濺射 多靶復(fù)合磁控濺射鍍膜機(jī) 離子刻蝕機(jī)功能 可定制

research熱蒸發(fā)/磁控濺射

成都漢普升科技有限公司，成立于2015年11月16日，致力于電真空、核級裝備、人工晶體材料及薄膜制備設(shè)備的技術(shù)提升，在服務(wù)領(lǐng)域深耕細(xì)作，具有較深的技術(shù)沉積。
公司成立以來，秉承“超越極限，邁向卓越”的核心價值觀，在自己所擅長領(lǐng)域為客戶提供優(yōu)良的產(chǎn)品和技術(shù)解決方案，公司注重產(chǎn)品和運營模式創(chuàng)新，我們堅信：唯有創(chuàng)新方能給用戶增值，公司已與多家科研院所、高等院校及企事業(yè)單位進(jìn)行橫向合作，形成了科研級、工業(yè)級、軍品級產(chǎn)品體系，已為客戶設(shè)計制造了多套專用設(shè)備和儀器，獲得了用戶廣泛贊譽。

●主要功能：多靶復(fù)合磁控濺射鍍膜機(jī)，可滿足合金膜、單層膜、多層膜、導(dǎo)電膜、非導(dǎo)電膜和反應(yīng)濺射的需要，具有極高的實用性和通用性（三靶、垂直與共濺射合一、在線清洗基片等），能夠提供高水平功能薄膜研制，特別適合于半導(dǎo)體、新能源、磁性材料、儲氫材料、二維材料、超硬薄膜、固體潤滑薄膜、自潔凈薄膜、等領(lǐng)域前沿研究，同時可選配等離子刻蝕功能和輔助鍍膜。

1. 主體和腔室：全封閉框架結(jié)構(gòu)，機(jī)柜和主機(jī)為一體式結(jié)構(gòu)，骨架默認(rèn)為白色，門板為白色，四只腳輪，可固定，可移動。真空腔室采用優(yōu)質(zhì)0Cr18Ni9不銹鋼材質(zhì)（SUS304），腔體尺寸不小于為：?450x500mm；真空室為前開門方式，采用鉸鏈連接，自動鎖緊，并配有門到位開關(guān)，徹底杜絕誤操作；真空腔室設(shè)置DN100觀察窗口，位置在真空腔體正前方。

2. 真空系統(tǒng)：

2.1 極限真空度≤Pa（空載、經(jīng)充分烘烤除氣并充干燥氮氣）。

2.2 真空配置。 前級泵為機(jī)械真空泵，抽速優(yōu)于8L/S，超高分子泵一臺，抽速1200L/S。

2.3 真空測量：采用進(jìn)口全量程真空計，優(yōu)選德國萊寶與瑞士inficon。

3. 工件盤系統(tǒng)：配備工件盤一套，可安裝4英寸基片1片，選配高溫工件盤＜800℃。

4. 磁控濺射系統(tǒng)：配置三只2-4英寸濺射陰極，三只靶均能兼容直流和射頻濺射，并可單獨自由切換，磁控靶安裝與真空室底部，向上濺射成膜。

5.充氣系統(tǒng)：二路分別配置MFC質(zhì)量流量控制器，均為0-100SCCM，準(zhǔn)確度±1%F.S，線性±0.5%F.S,重復(fù)精度±0.2%F.S。

5. 其他：配置斷水保護(hù)，配置冷水機(jī)組，冷水機(jī)制冷量為5000Kcal；設(shè)備配備小型靜音空壓機(jī)；保修期1年，維修響應(yīng)時間不超過24小時。

6. 操作系統(tǒng)及安全監(jiān)控：采用人機(jī)界面+西門子PLC實現(xiàn)對設(shè)備集中自動控制；所有控制系統(tǒng)和電氣安裝均與主機(jī)集成在一起，避免控制柜與主機(jī)之間線路放在地上或從頂部引入帶來的問題，模塊化設(shè)計能確保社保維護(hù)維修的便捷性。

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