產(chǎn)品簡介
Made in UK, 英國EM Resist Ltd出品的光刻膠（濃度1%-17%/厚度20nm-3500nm PMMA、SML系列電子束曝光阻劑），PMMA是常用的普通正阻劑；SML系列阻劑是高分辨率高深寬比的正阻劑。
公司簡介
南京覃思科技有限公司是從事光學(xué)、電子儀器銷售的專業(yè)公司，經(jīng)營范圍主要為：電子光學(xué)儀器、電子顯微鏡及其附屬設(shè)備、光學(xué)儀器、實驗室儀器及光學(xué)行業(yè)特殊要求的研發(fā)和技術(shù)服務(wù)。公司主要技術(shù)人員來自于改制前的原南京江南光電集團，他們均有多年從事光學(xué)顯微鏡、電子顯微鏡、電鏡制樣（真空鍍膜）等儀器設(shè)計、安裝服務(wù)方面的行業(yè)經(jīng)驗，同時擁有良好的客戶資源和技術(shù)能力。公司所銷售的儀器質(zhì)量和服務(wù)均為一流，在用戶中口碑很好。
我公司獲得了英國Quorum掃描電鏡制樣設(shè)備、歐洲Technoorg 電子顯微鏡樣品制備系統(tǒng)、美國JC Nabity電子束曝光系統(tǒng)、德國ROYAL冷光儀、德國Ditabis混勻儀以及英國Deben電鏡附件的中國區(qū)代理商和服務(wù)商的資格授權(quán)。
在“把優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品和優(yōu)質(zhì)服務(wù)奉獻給用戶”的工作方針指導(dǎo)下，我公司經(jīng)常舉辦或贊助各類學(xué)術(shù)研討、交流及技術(shù)培訓(xùn)等社會活動，經(jīng)常參加各種展會，同時用戶跟蹤溝通體系完善，客戶檔案管理完備，客戶回訪服務(wù)完全；進而取得了良好的經(jīng)濟效益和社會效益。
客戶涵蓋于國內(nèi)高等院校、科研院所、醫(yī)療衛(wèi)生機構(gòu)、政府機構(gòu)、工礦企業(yè)等領(lǐng)域。例如：北京大學(xué)、清華大學(xué)、浙江大學(xué)、南京大學(xué)、東南大學(xué)、哈爾濱工業(yè)大學(xué)等著名院校；中科院古生物所、中科院地質(zhì)與地球物理所、中電第十四研究所、航天科工北京201研究所等知名科研機構(gòu)；江西、河北公安廳等國家機構(gòu)；Intel、三星Samsung、西門子Siemens、博世Bosch、希捷Seagate、漢高Henkel等著名跨國企業(yè)；洪都、三樂、航天晨光等國內(nèi)骨干企業(yè)。
本公司一向堅持以“誠信經(jīng)營、誠實服務(wù)”為立業(yè)宗旨，奉行“精研覃思、無微不至”的企業(yè)文化，公司將以更優(yōu)秀的科技產(chǎn)品及服務(wù)回報社會，愿與社會各界竭誠合作，共同發(fā)展。
展開
產(chǎn)品說明
的SML正阻劑特點：無需鄰近效應(yīng)校正，低加速電壓下也能使用，可提高EBL設(shè)備能力并制作出傳統(tǒng)PMMA做不出來的新穎微納器件，特別適合科研應(yīng)用；有SML50、SML100、SML300、SML600、SML1000、SML2000等系列型號（數(shù)字表示光刻膠涂布厚度）。 [資料]PMMA (Polymethyl – Methacrylate；聚甲基丙烯酸甲酯；positive tone, polymer chain scission type for Electron beam, DUV, x-ray and multi-level lithography) is a widely used, versatile resist that is used for many imaging (and non-imaging) micro-electro
nic applications as well as a protective coating for wafer thinning, a bo
nding adhesive and as a sacrificial layer, but is commo
nly used as a high resolution positive resist for direct write with e-beam. EM Resist Ltd specialises in electron beam lithography resists and applications. We develop and manufacture electron beam resists in a purpose built clean-room facility to ensure maximum quality and performance.Our products and expertise are the result of many years research by experienced physicists and material scientists in both academia and industry. EM Resist products are provided in a clean room compatible box, if you need Material Safety Data Sheets, Process Information, Example design files and other useful information, please co
ntact with our Chinese Distributor(). PMMA Product Options. First,selec which solvent(Anisole or Chlorobenzene) best suits your application. Second,selec which solid percentage(1%-17%, 20nm-3500nm) of thickness required.Third,choose a volume to suit your usage needs. PMMA系列和SML系列電子束曝光阻劑/光刻膠，常作為美國JC Nabity出品的基于電鏡安裝的NPGS電子束曝光系統(tǒng)或其它類型EBL系統(tǒng)的配套耗材使用（詳見）,歡迎選購！
本頁產(chǎn)品地址：http://www.bhxfsw.cn/sell/show-5624599.html
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