NLD-3500(A)全自動原子層沉積設備

NLD-3500(A)全自動原子層沉積設備概述：原子層沉積是一項沉積薄膜的重要技術(shù)，具有廣泛的應用。ALD原子層沉積可以滿足精確膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉積，這方面ALD原子層沉積遠超過其它沉積技術(shù)。由于前驅(qū)體流量的隨意性不會帶來影響，所以在ALD原子層沉積中有序、自限制的表面反應將會帶來非統(tǒng)計的沉積。

那諾-馬斯特中國有限公司成立于2015年4月，是服務大中華區(qū)(包含中國大陸，香港，臺灣和澳門)的客戶，同時我們在中國大陸設有專門的服務辦公室，提供銷售和售后技術(shù)服務。 那諾-馬斯特中國的主要產(chǎn)品包括薄膜沉積設備、薄膜生長設備、干法刻蝕設備、兆聲濕法清洗設備及太空模擬測試設備等等。Nano-Master的前身是那諾-馬斯特美國，該公司是法國那諾-馬斯特有限公司于1992年在美國所創(chuàng)立的全資子公司，是一家的缺陷檢測和高速鍍層測量的計量公司。自從1993年開始Birol Kuyel博士全面接管那諾-馬斯特美國并正式名。 自2001年Nano-Master開始設計開發(fā)薄膜應用方面的設備，正式面世的系統(tǒng)依次是磁控濺射、PECVD、晶圓/掩模版清洗系統(tǒng)…。應用領域涵蓋了半導體、MEMS、光電子學、納米技術(shù)和光伏等。我們的設備包含用于二氧化硅、氮化硅、類金剛石和CNT沉積的PECVD，用于InGaN、AlGaN生長的PA-MOCVD，濺射鍍膜(反應濺、共濺 、組合濺)，熱蒸發(fā)和電子束蒸發(fā)，離子束刻蝕和反應離子刻蝕，原子層沉積，兆聲清洗以及光刻膠剝離等。三十年左右的時間內(nèi)Nano-Master已經(jīng)發(fā)展成為全球薄膜設備的供應商，已售出的幾百套設備分布于20多個不同國家的大學、研發(fā)中心和國家重點實驗室。 我們聘用技術(shù)熟練并具有良好教育背景的設計和制造工程師、應用工程師、服務工程師、技術(shù)支持人員，使得公司擁有的服務團隊。作為薄膜工藝的設備提供商，我們的目標是提供高品質(zhì)的服務并始終維持高水平的集成度。

NLD-3500(A)全自動原子層沉積設備概述：原子層沉積是一項沉積薄膜的重要技術(shù)，具有廣泛的應用。ALD原子層沉積可以滿足精確膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉積，這方面ALD原子層沉積遠超過其它沉積技術(shù)。由于前驅(qū)體流量的隨意性不會帶來影響，所以在ALD原子層沉積中有序、自限制的表面反應將會帶來非統(tǒng)計的沉積。這使得ALD原子層沉積膜保持高度的光滑、連續(xù)以及無孔的特性，可以提供優(yōu)異的薄膜性能。ALD原子層工藝也可以實現(xiàn)到大基片上。

NLD-3500(A)全自動原子層沉積設備特點：NLD-3500（A）是一款全自動獨立的PC計算機控制的ALD原子層沉積系統(tǒng)，帶Labview軟件，具備四級密碼控制的用戶授權(quán)保護功能。系統(tǒng)為全自動的安全互鎖設計，并提供了強大的靈活性，可以用于沉積多種薄膜（如：AL₂O₃, AlN, TiN, ZrO₂, LaO₂, HfO₂,等等）。應用領域包含半導體、光伏、MEMS等。NLD-3500（A）系統(tǒng)提供12”的鋁質(zhì)反應腔體，帶有加熱腔壁和氣動升降頂蓋，非常方便腔體的訪問和清潔。該系統(tǒng)擁有一個載氣艙包含多達7個50ml的加熱汽缸，用于前驅(qū)體以及反應物，同時帶有N2或者Ar作為運載氣體的快脈沖加熱傳輸閥。

NLD-3500(A)全自動原子層沉積設備選配：NLD-3500（A）系統(tǒng)的選配項包含，ICP離子源(用于等離子增強的PEALD)，臭氧發(fā)生器，等等。

NLD-3500(A)全自動原子層沉積設備應用：

• Oxides氧化物: Al₂O₃, HfO₂, La₂O₃, SiO₂, TiO ZnO, In2O₃，etc

• Nitrides氮化物: AlN, TiN, TaN, etc..

• Photovoltaic and MEMS applications光伏及MEMS應用.

• Nano laminates納米復合材料

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